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清华大学申请光刻机光栅测量标定系统专利

编辑:北京科汇华晟技术开发有限公司 日期:2024-01-10
据国家知识产权局公告,清华大学申请一项名为“一种光刻机光栅测量标定系统“,公开号CN117367746A,申请日期为2023年9月。
 
专利摘要显示,本发明提供了一种光刻机光栅测量标定系统,涉及光栅测量技术领域,包括机架、运动方向相互独立的运动系统、平面光栅组件、光栅读数头组件、激光干涉仪组件、跟随运动系统、真空波纹管组件和反射镜组件,所述真空波纹管安装在跟随运动系统上,并且位于对应的激光干涉仪和反射镜之间,所述跟随系统固定在机架上,并跟随运动系统运动;光栅读数头组件和平面光栅组件分别固定在运动系统的X向和Y向上。光栅读数头与平面光栅相互配合并实时反馈被标定件X向、Y向直线位移量以及分别绕X轴、Y轴、Z轴的旋转角度,对比光栅读数头和激光干涉仪所测被标定件(反射镜组件和平面光栅组件)的直线位移和旋转角度即可完成标定。

文章来源:金融界

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