BG-401A型曝光机（光刻机）是一款专为中小规模集成电路、声表面波器件及其他半导体元器件制造工艺设计的设备，主要用于单面对准及曝光。其最大兼容4英寸晶圆，广泛应用于科研、实验室以及中试生产等领域。

主要技术特点

对准工作台：BG-401A配备了高精度的对准工作台，确保在曝光过程中掩模与晶圆之间的图案对准精度，满足高要求的制造标准。

曝光光源：该设备采用高稳定性的紫外光源，提供均匀的光照，确保曝光质量的一致性和可靠性。

曝光区域：BG-401A的曝光区域设计合理，能够满足多种尺寸的晶圆加工需求，提升生产效率。

操作界面：设备配备了用户友好的操作界面，简化了操作流程，降低了使用难度，适合不同层次的操作人员。

兼容性：支持多种类型的光刻胶和掩模，具有较强的工艺适应性，满足不同产品的生产需求。

应用领域

BG-401A型曝光机广泛应用于以下领域：

集成电路制造：用于制作中小规模集成电路，满足实验室和中试生产的需求。

声表面波器件：在声表面波器件的制造过程中，提供高精度的图案转移，确保器件性能的稳定性。

半导体元器件：适用于各种半导体元器件的制造，满足不同工艺要求。

科研与实验室应用：作为科研和实验室的核心设备，支持多种实验和研究项目的进行。

BG-401A型曝光机以其高精度、稳定性和广泛的适用性，成为中小规模半导体制造领域的重要设备之一。其技术特点和应用领域使其在科研、实验室以及中试生产等方面发挥着重要作用。