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2025-06
光刻机紫外线
在半导体制造中，光刻机（Lithography Machine）是一种利用光源将微小图案从掩模（mask）转移到晶圆表面的关键设备。紫外线（UV）作为 ...
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2025-06
步进扫描光刻机
步进扫描光刻机（Step-and-Scan Lithography Machine）是目前先进半导体制造中广泛采用的一种高分辨率、高精度的光刻设备，广 ...
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2025-06
dev光刻机
“DEV光刻机”中的“DEV”通常指的是“Development”，即显影工艺阶段，因此，DEV光刻机并不是一种独立的光刻设备，而是指在整个光刻工艺流 ...
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2025-06
ev光刻机
EV光刻机，通常指的是极紫外光刻机（Extreme Ultraviolet Lithography, 简称 EUV），是当前最先进的光刻设备之一。它使 ...
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2025-06
标签光刻机
标签光刻机，是一种专门用于微纳尺度图案转移、并广泛应用于标签制造、柔性电子、RFID（无线射频识别）标签、传感器和显示器等领域的光刻设备。从基本原理来 ...
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2025-06
光刻机功能
光刻机（Photolithography Machine）是半导体制造过程中最核心、最精密的设备之一，其主要功能是将芯片设计图形通过光的照射精确投影到 ...
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2025-06
日本光刻机巨头
在全球光刻设备产业中，尽管荷兰的ASML凭借其极紫外（EUV）技术成为高端芯片制造的核心供应商，但日本的光刻机巨头——尼康（Nikon）与佳能（Can ...
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2025-06
荷兰光刻机进口
荷兰光刻机的进口，主要指世界各国从荷兰进口由ASML公司生产的光刻设备。这一行为不仅涉及高端制造设备的国际流通，更是全球半导体产业协作的重要体现。光刻 ...
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2025-06
光刻机的意义
光刻机（Lithography Scanner）是现代半导体制造中最核心、最关键的设备之一。它承担着将设计好的电路图案精确投影到硅片上的任务，是实现芯 ...
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2025-06
光刻机溶剂pma
光刻机中的溶剂角色概述光刻机作为半导体制造的核心设备，关键步骤之一是光刻胶的涂覆与显影。光刻胶（Photoresist）本身是光敏性的高分子材料，在显 ...