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2026-01
光刻机物镜投影系统原理
光刻机的物镜投影系统，是整台光刻机中技术难度最高、精度要求最极端的核心部件，常被称为光刻机的“眼睛”和“灵魂”。无论光源多先进、工件台多精密，最终能否 ...
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26
2026-01
光刻机减震技术原理
光刻机减震技术，是现代光刻设备中最基础却又最关键的工程技术之一。在先进制程光刻中，曝光精度已经进入纳米甚至亚纳米尺度，而任何微小振动都会被直接“放大” ...
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15
2026-01
沉浸式光刻机是什么原理
沉浸式光刻机是一种在传统投影光刻基础上发展起来的高端光刻设备，其核心原理是在投影物镜与晶圆之间引入高折射率液体，从而突破空气条件下光学成像分辨率的物理 ...
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15
2026-01
紫光光刻机什么原理
“紫光光刻机”并不是一个严格的国际通用技术名称，它通常是对使用紫外波段光源进行光刻的光刻机的通俗称呼。光刻的本质，是利用光学成像把掩模版上的图形精确复 ...
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13
2026-01
自制光刻机镜子原理
自制光刻机中的“镜子原理”，通常指的是利用反射光学系统来实现图形成像与曝光的基本思想。这类光刻机多用于教学、科研验证或个人实验，并不追求纳米级极限精度 ...
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13
2026-01
光刻机打印原理是什么
光刻机的“打印原理”，本质上并不是像喷墨或激光打印那样把材料直接打印到表面，而是通过光学成像与化学反应相结合，把电路图形“转移”到晶圆上的一种高度精密 ...
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12
2026-01
光刻机显微镜原理
光刻机显微镜原理，是理解光刻机如何实现纳米级图形转移的核心切入点。严格来说，光刻机本质上就是一台极端精密、反向使用的显微镜系统。从光学本质上看，光刻机 ...
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2026-01
光刻机的运作原理
光刻机的运作原理，是现代半导体制造中最核心、最复杂的技术之一。它的基本任务，是将芯片设计中的电路图形，精确、重复地转移到硅晶圆表面，为后续的刻蚀、掺杂 ...
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2026-01
光刻机的结构和工作原理
光刻机是现代半导体制造的核心设备，其作用是将设计好的微米乃至纳米级电路图形精确地转印到晶圆表面，是芯片生产中不可替代的关键环节。光刻机的结构复杂、精度 ...
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2026-01
功率器件光刻机用途是什么原理
功率器件光刻机，是专门服务于功率半导体器件制造的一类光刻设备，主要用于在功率芯片的制造过程中，将电路版图和功能结构精确地转移到晶圆表面。它的用途和原理 ...