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08
2025-03
光刻机22纳米
22纳米（22nm）工艺节点是半导体制造中的一个重要里程碑。随着半导体行业的发展，越来越多的电子设备需求更高的性能、更小的尺寸和更低的功耗，推动了芯片 ...
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07
2025-03
光刻机关键技术
光刻机是半导体制造过程中最为核心的设备之一，它通过将集成电路图案精确地转印到硅片上，形成微观电路结构。随着集成电路工艺的不断进步，光刻机的技术也在不断 ...
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06
2025-03
四纳米光刻机
随着半导体行业的飞速发展，芯片制程不断向更小的节点推进，从而对光刻技术提出了更高的要求。四纳米（4nm）节点光刻机代表着现代半导体制造技术的前沿，尽管 ...
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05
2025-03
十纳米光刻机
十纳米（10nm）光刻机指的是能够制造10纳米级别图案的光刻设备，通常应用于半导体芯片制造中。随着半导体行业向更小节点推进，光刻机技术也经历了不断的发 ...
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04
2025-03
纳米压光刻机
纳米压光刻（Nanoimprint Lithography，简称NIL）是一种先进的纳米制造技术，近年来在微电子、光学、传感器和生物技术领域引起了广泛 ...
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03
2025-03
sony光刻机
Sony（索尼）作为全球知名的电子科技公司，虽然并非半导体光刻机市场的主导者（如荷兰ASML、日本尼康Nikon和佳能Canon），但在特定领域，如微 ...
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02
2025-03
光刻机吸盘
光刻机吸盘（Wafer Chuck）是光刻机中用于固定和稳定硅片（Wafer）的核心组件。它的主要功能是确保硅片在曝光过程中保持平稳、精准对位，并减少 ...
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01
2025-03
光刻机做什么
光刻机（Lithography Machine）是半导体制造过程中最重要的设备之一，它的主要作用是将电路图案精确地转移到硅片（Wafer）上，制造出纳 ...
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28
2025-02
光刻机浸没系统
光刻机浸没系统（Immersion Lithography System）是一种通过引入液体介质来提高光刻分辨率的先进技术，广泛应用于半导体制造中，尤 ...
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27
2025-02
液晶光刻机
液晶光刻机（LCD-based lithography machine）是目前微电子制造过程中一种新兴的光刻技术。它利用液晶显示屏（LCD）作为光源的 ...