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2025-11
euv极紫外光刻机工作原理
EUV光刻（Extreme Ultraviolet Lithography，极紫外光刻）是下一代半导体制造技术中的重要创新之一，用于制作小于7纳米甚至 ...
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19
2025-11
光刻机光源原理
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备，它通过使用光源将芯片设计的图案转移到硅片的光刻胶上。光源的质量和性能直接影响到光刻过程的精度和芯片的制程能力。 ...
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18
2025-11
光刻机光源工作原理
光刻机的核心是将掩模版上的电路图形“刻”到硅片上，而光源是这一切的起点。不同代光刻机使用的光源不同，但其目标一致：产生极高亮度、极高稳定度、极短波长、 ...
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18
2025-11
光刻机准分子激光器的原理
准分子激光器（Excimer Laser）是光刻机中非常关键的光源，它在半导体制造中承担着极其重要的任务。准分子激光器主要用于深紫外光刻（DUV），通 ...
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18
2025-11
光刻机和镭雕的原理是一样吗
很多人以为光刻机和镭雕机都靠“光”加工材料，原理差不多。但实际上，两者的原理、目的、材料处理方式完全不同，只是都用到了激光或光源，因此容易造成误解。一 ...
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08
2025-11
实验室光刻机技术原理
实验室光刻机是一种将微小图案通过光学曝光转移到光刻胶上的设备，广泛应用于微电子、微机电系统（MEMS）、纳米技术和生物传感器的研究。一、光刻基本原理光 ...
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06
2025-11
光刻机及刻蚀原理
光刻机和刻蚀技术是半导体制造过程中不可或缺的两项核心工艺。它们通过精确的光学和化学方法，将电路图案转移到晶圆表面，是实现芯片微缩和高精度制造的关键。一 ...
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04
2025-11
asml光刻机什么原理
ASML光刻机是当今半导体制造中最复杂、最核心的设备，被誉为“芯片之母”。它的作用是将电路图案精确地转印到硅片表面，是集成电路制造的关键环节。一、光刻 ...
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30
2025-10
封装光刻机的工作原理
封装光刻机是一种用于芯片封装工艺的高精度曝光设备，主要任务是在晶圆或封装基板上把掩模上的电路图形精确地转移到光刻胶上。它常用于晶圆级封装（WLP）、扇 ...
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30
2025-10
光刻机准分子激光光源原理
准分子激光是现代光刻机的核心光源，它属于深紫外（DUV）激光，能发出波长极短、能量极高的光，是实现芯片精细线宽加工的关键技术。目前主流光刻机使用的准分 ...