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2025-10
光刻机的制造原理
光刻机是现代芯片制造中最核心、最复杂、也是最昂贵的设备之一。它的制造原理综合了光学、机械、电子、材料和控制等多学科技术，其功能是将电路图案精确地投射到 ...
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2025-10
光刻机n+1原理
光刻机是芯片制造的核心设备，而所谓“N+1光刻机”或“N+1工艺”并不是指某种特定型号的设备，而是一种制程技术演进概念。在半导体制造中，“N”代表当前 ...
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2025-10
光刻机原理及作用
光刻机是现代芯片制造中最核心的设备之一，被誉为“芯片制造之母”。它的主要作用是将电路设计图案从掩模（Mask）精确地转印到硅晶圆（Wafer）表面的光 ...
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2025-10
sml光刻机原理
SML光刻机是半导体制造中重要的光刻设备之一，SML可理解为“Semiconductor Manufacturing Lithography”的缩写， ...
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2025-10
hvm光刻机原理
HVM光刻机，全称为“High Volume Manufacturing Lithography Machine”，意为“高产能制造光刻机”。它是用于 ...
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2025-10
n7光刻机原理
N7光刻机通常指的是用于制造7纳米工艺芯片的先进光刻设备，它代表了当代半导体制造技术的关键节点。N7中的“N”是“Node”（制程节点）的缩写，表示晶 ...
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2025-10
光刻机构造原理
光刻机是半导体制造中最核心的设备之一，它的作用是将电路图样从掩模（mask）精确地转移到硅片表面，是芯片制造的“照相机”。其结构精密、光学复杂、控制系 ...
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2025-10
10寸光刻机原理
一、什么是10英寸光刻机“10英寸光刻机”是指能够加工最大直径为10英寸（约254毫米）晶圆的光刻设备。光刻机是芯片制造的核心装备，其功能是将电路图形 ...
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2025-10
光刻机与相机原理
光刻机是芯片制造中最核心的设备，而它的基本工作原理与我们熟悉的相机有着密切的联系。简单地说，光刻机就像是一台“反着工作的相机”。相机是将外界景物的光线 ...
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2025-10
光刻机工作台工作原理
光刻机是芯片制造中最关键的设备，而其中的“工作台（Wafer Stage）”是整机精度与效率的核心部件之一。它承担着承载硅片、移动定位、实时对准和扫描 ...