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2025-10
10寸光刻机原理
一、什么是10英寸光刻机“10英寸光刻机”是指能够加工最大直径为10英寸（约254毫米）晶圆的光刻设备。光刻机是芯片制造的核心装备，其功能是将电路图形 ...
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2025-10
光刻机与相机原理
光刻机是芯片制造中最核心的设备，而它的基本工作原理与我们熟悉的相机有着密切的联系。简单地说，光刻机就像是一台“反着工作的相机”。相机是将外界景物的光线 ...
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2025-10
光刻机工作台工作原理
光刻机是芯片制造中最关键的设备，而其中的“工作台（Wafer Stage）”是整机精度与效率的核心部件之一。它承担着承载硅片、移动定位、实时对准和扫描 ...
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2025-10
光刻机5nm原理
光刻机是制造芯片中最关键的设备之一，而5nm光刻机代表了目前全球最先进的半导体制造水平。一、光刻的基本概念光刻是芯片制造的核心步骤之一。它的过程类似照 ...
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2025-10
euv光刻机工作原理详解
EUV光刻机（Extreme Ultraviolet Lithography）是目前世界上最先进的芯片制造设备之一，是半导体产业进入3纳米及以下制程的 ...
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09
2025-10
asml光刻机工作原理是什么
ASML光刻机是当今世界上最先进的芯片制造设备，被誉为“现代工业皇冠上的明珠”。它的作用是在硅片上刻出微米甚至纳米级的电路图案，是半导体制造中最核心、 ...
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04
2025-10
光刻机制作芯片的原理
光刻机是现代芯片制造的核心设备，它的作用是把电路设计图精确地“刻”在硅片上。没有光刻机，就无法制造出任何集成电路。它的工作原理看似复杂，但本质上与“照 ...
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2025-10
光刻机镜头原理
光刻机是芯片制造的核心设备，而镜头是其中最关键的部分。它的作用是把掩模上的电路图案缩小并清晰地投射到硅片表面。镜头的作用光刻机镜头需要完成几个重要任务 ...
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2025-09
光刻机原理腐蚀机
在集成电路制造过程中，光刻与腐蚀是两个紧密衔接、互为补充的核心工艺。光刻机负责把电路图形“印刷”到硅片表面，而腐蚀机则负责去除不需要的材料，保留由光刻 ...
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2025-09
光刻机二次光刻对齐原理
光刻机是集成电路制造的核心设备，它的主要任务是把电路图形转移到硅片表面光刻胶层上。随着芯片集成度不断提高，单次光刻已经无法完成所有电路层的制作，通常需 ...