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2025-10
光刻机做芯片原理
光刻机是芯片制造中最核心的设备，被誉为“芯片制造的心脏”。它的任务是把设计好的电路图案精确地“印”在硅片表面，让一块普通的硅变成拥有数十亿个晶体管的智 ...
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2025-10
光刻机focal原理
在光刻机的工作过程中，“Focal”（焦点或焦距控制）是决定图案转移精度的关键参数之一。所谓“光刻机Focal原理”，是指光刻系统如何通过精确的焦距定 ...
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2025-10
mems光刻机原理
MEMS光刻机是一种专门用于微机电系统（Micro-Electro-Mechanical Systems，简称MEMS）制造的精密设备，它结合了传统半 ...
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2025-10
光刻机的制造原理
光刻机是现代芯片制造中最核心、最复杂、也是最昂贵的设备之一。它的制造原理综合了光学、机械、电子、材料和控制等多学科技术，其功能是将电路图案精确地投射到 ...
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2025-10
光刻机n+1原理
光刻机是芯片制造的核心设备，而所谓“N+1光刻机”或“N+1工艺”并不是指某种特定型号的设备，而是一种制程技术演进概念。在半导体制造中，“N”代表当前 ...
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2025-10
光刻机原理及作用
光刻机是现代芯片制造中最核心的设备之一，被誉为“芯片制造之母”。它的主要作用是将电路设计图案从掩模（Mask）精确地转印到硅晶圆（Wafer）表面的光 ...
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2025-10
sml光刻机原理
SML光刻机是半导体制造中重要的光刻设备之一，SML可理解为“Semiconductor Manufacturing Lithography”的缩写， ...
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2025-10
hvm光刻机原理
HVM光刻机，全称为“High Volume Manufacturing Lithography Machine”，意为“高产能制造光刻机”。它是用于 ...
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2025-10
n7光刻机原理
N7光刻机通常指的是用于制造7纳米工艺芯片的先进光刻设备，它代表了当代半导体制造技术的关键节点。N7中的“N”是“Node”（制程节点）的缩写，表示晶 ...
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2025-10
光刻机构造原理
光刻机是半导体制造中最核心的设备之一，它的作用是将电路图样从掩模（mask）精确地转移到硅片表面，是芯片制造的“照相机”。其结构精密、光学复杂、控制系 ...