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04
2025-12
手持式光刻机的原理
手持式光刻机是一种小型化、便携式的图形曝光设备，主要用于科研实验室、快速原型加工、柔性电子、电路维修与教学演示。与大型半导体光刻机相比，它的结构大幅简 ...
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04
2025-12
冰刻机与光刻机的工作原理
冰刻机与光刻机虽然都用于微纳结构的加工，但它们属于两种完全不同的技术体系。光刻机依靠光学曝光把图形转移到光刻胶上，然后再通过刻蚀工艺去除材料，是半导体 ...
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03
2025-12
光刻机内部结构原理
光刻机是现代芯片制造中最核心、最复杂的设备之一，其内部结构密集集成了光学、机械、控制和材料工程的尖端成果。它的任务是把电路图形从掩模精准地投影到硅片光 ...
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03
2025-12
半导体设备光刻机原理
光刻机是半导体制造中最核心的设备，它的作用是将电路图形从掩模精确地转印到硅片表面的光刻胶上。芯片中成千上万层的图形布局，都需要光刻机重复曝光才能逐层构 ...
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02
2025-12
光刻机加油的原理
光刻机作为半导体制造过程中至关重要的设备，其精密的工作原理和复杂的结构使其在芯片生产中扮演着关键角色。光刻机的主要任务是将电路图案精确地转移到硅片（晶 ...
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26
2025-11
光刻机adml工作原理
ADML（Argon Dynamic Mask Lithography，氩气动态掩膜光刻技术）是一种新型的光刻技术，它基于传统光刻技术的原理，并结合氩 ...
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25
2025-11
二氧化碳光刻机原理
二氧化碳光刻机是一类以 CO₂激光（波长10.6 μm）为光源 的特殊光刻设备，多用于研究型加工、微结构刻蚀预处理、掩膜制作或某些材料的表面改性，而不 ...
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25
2025-11
研究所光刻机技术原理
研究所或高校实验室常用的光刻机，与工业芯片厂的高端光刻机不同，通常属于“微纳加工实验设备”，主要用于教学、科研原型开发、小批量实验芯片加工。其核心任务 ...
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24
2025-11
光刻机发明的原理
光刻机（Lithography Machine）是现代芯片制造的核心设备，被称为“工业皇冠上的明珠”。它能利用光将电路图形转移到硅片上，使得晶体管尺寸 ...
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24
2025-11
光刻机晶圆工作台原理
在光刻机中，晶圆工作台（Wafer Stage）是一个至关重要的核心组件，它负责支撑晶圆并将其精确地定位和移动，以便将掩模上的图案通过光刻过程准确地转 ...