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09
2026-01
光学物镜光刻机工作原理
光学物镜光刻机，是指以高性能光学物镜作为核心成像单元的光刻设备，其基本任务是将掩模上的微细图形，通过光学成像方式精确投影到涂有光刻胶的晶圆表面。它是现 ...
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09
2026-01
刻录机和光刻机的原理是一样
刻录机和光刻机在名称上都带有“刻”字，也都涉及“用光在材料上留下信息或结构”，因此常常会被拿来类比。但从严格的工程和物理原理上看，它们在底层思想上有相 ...
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06
2026-01
顶级光刻机抛光原理
顶级光刻机中的“抛光原理”，通常并不是指整台设备的外表抛光，而是特指其关键零部件在制造过程中所采用的超精密抛光技术，尤其是投影光学系统中的反射镜、透镜 ...
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06
2026-01
晶片光刻机原理
晶片光刻机是现代半导体制造中最核心、最复杂的设备之一，它的基本任务是在硅晶圆表面把电路设计图形精确地“转印”到光刻胶上，为后续的刻蚀、离子注入和薄膜沉 ...
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29
2025-12
光刻机原理及对应精度设计
光刻机是现代半导体制造工艺中的核心设备，主要用于将集成电路设计图案精确地转印到硅晶片上。光刻技术的原理及其精度设计直接决定了芯片的制造质量和微小化程度 ...
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29
2025-12
光刻机原理设计
光刻机是半导体制造中的关键设备，广泛应用于集成电路的生产过程。它通过将设计好的电路图案（掩模）精确地转印到硅晶片（晶圆）表面，是实现微型化、高性能电子 ...
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22
2025-12
光刻机的机械原理
光刻机的机械原理是其实现高分辨率、高重复精度和高产能的基础支撑。相比光源和光学系统常被视为“核心”，机械系统则是光刻机稳定运行的“骨架与肌肉”，它直接 ...
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22
2025-12
纳米光刻机的工作原理
纳米光刻机是现代微纳制造领域中最核心、最复杂的装备之一，它的作用是在晶圆等基底材料表面，将纳米尺度的图形精准地“复制”出来，是先进集成电路、纳米光学器 ...
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15
2025-12
模压玻璃光刻机工作原理
模压玻璃光刻机（Molded Glass Lithography MGL）是一种新型的光刻技术，特别适用于制造高精度、微米级或纳米级尺寸的光学元件、传 ...
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15
2025-12
asml光刻机曝光原理
ASML 光刻机是现代半导体制造中的核心设备，它的曝光原理是半导体芯片制造过程中至关重要的一环。光刻机通过将电路图案精准地转移到硅片上，帮助制造出具有 ...