最新资讯
联系我们
-
13
2025-10
hvm光刻机原理
HVM光刻机，全称为“High Volume Manufacturing Lithography Machine”，意为“高产能制造光刻机”。它是用于 ...
-
13
2025-10
n7光刻机原理
N7光刻机通常指的是用于制造7纳米工艺芯片的先进光刻设备，它代表了当代半导体制造技术的关键节点。N7中的“N”是“Node”（制程节点）的缩写，表示晶 ...
-
12
2025-10
光刻机构造原理
光刻机是半导体制造中最核心的设备之一，它的作用是将电路图样从掩模（mask）精确地转移到硅片表面，是芯片制造的“照相机”。其结构精密、光学复杂、控制系 ...
-
11
2025-10
10寸光刻机原理
一、什么是10英寸光刻机“10英寸光刻机”是指能够加工最大直径为10英寸（约254毫米）晶圆的光刻设备。光刻机是芯片制造的核心装备，其功能是将电路图形 ...
-
11
2025-10
光刻机与相机原理
光刻机是芯片制造中最核心的设备，而它的基本工作原理与我们熟悉的相机有着密切的联系。简单地说，光刻机就像是一台“反着工作的相机”。相机是将外界景物的光线 ...
-
10
2025-10
光刻机工作台工作原理
光刻机是芯片制造中最关键的设备，而其中的“工作台（Wafer Stage）”是整机精度与效率的核心部件之一。它承担着承载硅片、移动定位、实时对准和扫描 ...
-
10
2025-10
光刻机5nm原理
光刻机是制造芯片中最关键的设备之一，而5nm光刻机代表了目前全球最先进的半导体制造水平。一、光刻的基本概念光刻是芯片制造的核心步骤之一。它的过程类似照 ...
-
09
2025-10
euv光刻机工作原理详解
EUV光刻机（Extreme Ultraviolet Lithography）是目前世界上最先进的芯片制造设备之一，是半导体产业进入3纳米及以下制程的 ...
-
09
2025-10
asml光刻机工作原理是什么
ASML光刻机是当今世界上最先进的芯片制造设备，被誉为“现代工业皇冠上的明珠”。它的作用是在硅片上刻出微米甚至纳米级的电路图案，是半导体制造中最核心、 ...
-
04
2025-10
光刻机制作芯片的原理
光刻机是现代芯片制造的核心设备，它的作用是把电路设计图精确地“刻”在硅片上。没有光刻机，就无法制造出任何集成电路。它的工作原理看似复杂，但本质上与“照 ...