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2026-03
尼康i14光刻机结构及曝光原理
Nikon 的 NSR-S/i14（通常简称 i14）属于 193nm 浸没式（ArF immersion）步进扫描光刻机，是先进逻辑与存储器制造中广 ...
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02
2026-03
5nm光刻机的构造原理
5nm光刻机并不是指真的“刻出5纳米宽度的光线”，而是指能够支持5纳米制程节点芯片制造的极紫外光刻系统（EUV Lithography）。其核心设备由 ...
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28
2026-02
光刻机隧道效应是什么原理
在严格的物理定义中，光刻机本身并不存在一个专门叫“光刻机隧道效应”的独立原理。所谓“隧道效应”是量子力学中的基本现象，通常出现在纳米尺度的半导体器件中 ...
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2026-02
沉浸式光刻机有哪些原理和作用
沉浸式光刻机，是在深紫外（DUV）光刻基础上发展起来的一种先进曝光技术，其核心思想是在投影物镜与晶圆之间引入高折射率液体，从而提高系统数值孔径（NA） ...
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27
2026-02
光刻机激光器工作原理
光刻机中的激光器，是整套光刻系统的“心脏光源”，其核心任务是提供稳定、单色性强、能量可控、重复频率极高的高品质光束，用于精确曝光晶圆上的光刻胶。不同代 ...
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27
2026-02
光刻机研发原理
光刻机的研发原理，本质上围绕一个核心目标展开：将电路图形以极高精度“缩小并转移”到硅片上，从而制造出纳米级集成电路结构。它是半导体制造中最核心、最复杂 ...
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26
2026-02
光刻机激光原理是什么
光刻机中的激光系统是曝光的核心光源，它提供高稳定性、高相干性和单一波长的光，用于将掩模上的电路图形精确投影到硅片上。激光在光刻机中并不是普通光源，而是 ...
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26
2026-02
光刻机成功的基础原理有哪些
光刻机之所以能够成功实现纳米级芯片制造，并不是依靠单一技术突破，而是建立在多项基础科学与工程原理之上。它的成功可以归结为光学成像原理、光刻化学反应原理 ...
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25
2026-02
光刻机是如何制作的原理
光刻机并不是“制造芯片的机器本身”，而是把电路图形精确转移到硅片上的核心设备。它的制作原理本质上是：把高精度光学系统、纳米级运动控制系统、极稳定结构工 ...
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2026-02
光刻机所用的结构原理是什么
光刻机是半导体制造中最核心的设备之一，它的作用是把电路图形从掩模版精确地转移到硅片上的光刻胶层上。其结构原理本质上是高精度光学投影成像系统 + 纳米级 ...