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2025-11
二氧化碳光刻机原理
二氧化碳光刻机是一类以 CO₂激光（波长10.6 μm）为光源 的特殊光刻设备，多用于研究型加工、微结构刻蚀预处理、掩膜制作或某些材料的表面改性，而不 ...
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25
2025-11
研究所光刻机技术原理
研究所或高校实验室常用的光刻机，与工业芯片厂的高端光刻机不同，通常属于“微纳加工实验设备”，主要用于教学、科研原型开发、小批量实验芯片加工。其核心任务 ...
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2025-11
光刻机发明的原理
光刻机（Lithography Machine）是现代芯片制造的核心设备，被称为“工业皇冠上的明珠”。它能利用光将电路图形转移到硅片上，使得晶体管尺寸 ...
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2025-11
光刻机晶圆工作台原理
在光刻机中，晶圆工作台（Wafer Stage）是一个至关重要的核心组件，它负责支撑晶圆并将其精确地定位和移动，以便将掩模上的图案通过光刻过程准确地转 ...
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2025-11
euv极紫外光刻机工作原理
EUV光刻（Extreme Ultraviolet Lithography，极紫外光刻）是下一代半导体制造技术中的重要创新之一，用于制作小于7纳米甚至 ...
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2025-11
光刻机光源原理
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备，它通过使用光源将芯片设计的图案转移到硅片的光刻胶上。光源的质量和性能直接影响到光刻过程的精度和芯片的制程能力。 ...
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2025-11
光刻机光源工作原理
光刻机的核心是将掩模版上的电路图形“刻”到硅片上，而光源是这一切的起点。不同代光刻机使用的光源不同，但其目标一致：产生极高亮度、极高稳定度、极短波长、 ...
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2025-11
光刻机准分子激光器的原理
准分子激光器（Excimer Laser）是光刻机中非常关键的光源，它在半导体制造中承担着极其重要的任务。准分子激光器主要用于深紫外光刻（DUV），通 ...
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2025-11
光刻机和镭雕的原理是一样吗
很多人以为光刻机和镭雕机都靠“光”加工材料，原理差不多。但实际上，两者的原理、目的、材料处理方式完全不同，只是都用到了激光或光源，因此容易造成误解。一 ...
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2025-11
实验室光刻机技术原理
实验室光刻机是一种将微小图案通过光学曝光转移到光刻胶上的设备，广泛应用于微电子、微机电系统（MEMS）、纳米技术和生物传感器的研究。一、光刻基本原理光 ...