在全球半导体产业中，光刻机被誉为“皇冠上的明珠”，是制造芯片最关键的设备。由于其技术极其复杂，研发和制造门槛极高，因此全球能生产高端光刻机的公司极为稀少。

一、ASML（荷兰）——全球最先进的光刻机制造商

ASML 是目前世界唯一能够量产极紫外光（EUV）光刻机的公司，也是先进芯片制造的核心设备供应商。其总部位于荷兰，是典型的高科技“隐形冠军”。

技术优势

EUV光刻机独家供应商，波长为13.5纳米，用于5nm、3nm甚至2nm芯片制程。

提供先进的DUV（深紫外）光刻机，包括ArF干式和浸没式系统。

研发中的 High-NA EUV 光刻机将用于1.5nm甚至更小节点。

市场份额

ASML占据全球光刻机市场约80%以上的份额，在先进制程领域几乎处于垄断地位。其主要客户包括台积电、三星、英特尔等芯片巨头。

二、Nikon（日本）——曾经的王者，仍保有一席之地

Nikon 是一家历史悠久的日本光学设备制造商，在20世纪90年代曾是全球光刻设备的领先者。然而在EUV技术的竞赛中落后于ASML，目前主要生产 DUV 光刻机，应用于成熟制程（65nm 以上）。

技术特点

主攻 ArF 浸没式与 KrF 光刻系统。

在LCD光刻设备领域仍有竞争优势。

专注于IC封装、MEMS、LED等成熟工艺市场。

发展挑战

由于EUV领域未能突破，Nikon在先进制程市场份额不断被ASML蚕食，目前市占率约为10%左右，但在部分市场仍不可或缺。

三、Canon（日本）——光刻领域的“老将”回归

Canon 是另一家日本老牌光学公司，在上世纪也曾是光刻技术的代表力量。近年来逐步退出高端逻辑芯片光刻竞争，转而专注于中低端设备和纳米压印光刻（NIL）技术。

技术路线

擅长 G线/I线 光刻，用于PCB、LED、玻璃基板等制造。

推动纳米压印（NIL）技术，有望在特定场景（如3D NAND）形成突破。

不参与EUV竞争。

应用领域

主要面向中小型芯片厂、科研院所以及非硅基产品应用市场。

四、其他光刻相关企业与技术路线

虽然全球主流光刻设备市场由以上几家公司主导，但一些新技术路径也在尝试打破传统光刻的技术壁垒：

1. 纳米压印光刻（NIL）

如美国的 Molecular Imprints（已被Canon收购）专注于通过模板直接压印图案，绕过传统曝光机制，适合存储芯片和微结构加工。

2. 电子束直写（E-beam Lithography）

如瑞典的 Raith、德国的 Vistec 提供超高分辨率的科研级电子束直写设备，适合纳米实验、光掩膜制备。

3. 光刻材料公司

如 JSR（日本）、TOK（日本）、杜邦（美国） 等，在光刻胶、抗蚀剂、显影液等方面提供支撑。

五、总结

全球光刻机市场集中度极高，技术高度封锁。目前，ASML 几乎垄断了最先进的 EUV 光刻市场，日本的 Nikon 与 Canon 则在中低端和特定领域维持一定市场份额。