光刻机（Lithography Machine）是半导体制造的核心设备，用于将电路图形转移到硅片（wafer）上。它结合了光学、机械、材料和控制技术，被誉为“工业皇冠上的明珠”。

一、荷兰 ASML —— 全球光刻机巨头

公司背景

总部位于荷兰，成立于 1984 年，是全球光刻机市场的绝对领导者。

占据全球市场份额 80% 以上，尤其在高端光刻机领域几乎没有竞争对手。

核心技术与产品

DUV 光刻机：ArF 浸没式光刻机（193 nm 光源），适用于 7 nm 及以上制程。

EUV 光刻机：极紫外光刻机（13.5 nm 光源），是目前唯一能够大规模量产 5 nm、3 nm 先进制程的设备。

代表机型：TWINSCAN NXT 系列（DUV）、NXE 系列（EUV）。

市场地位

台积电（TSMC）、三星（Samsung）、英特尔（Intel）等先进晶圆厂均依赖 ASML 的 EUV 设备。

其光刻机售价极高，一台 EUV 光刻机价格超过 1.5 亿美元。

二、日本品牌 —— 传统劲旅

日本曾在光刻机市场上长期占据领先地位，尤其在 20 世纪 80–90 年代。虽然在 EUV 时代被 ASML 超越，但在中低端市场仍有重要影响力。

Nikon（尼康）

优势：

以步进式光刻机（Stepper）和投影式光刻机起家，技术积累深厚。

在 90 年代曾是全球光刻机市场第一。

现状：

目前主要生产 KrF（248 nm）、ArF（193 nm）等 DUV 光刻机。

在面板光刻、MEMS 制造、功率半导体等领域仍有市场。

局限：在 EUV 技术路线落后，逐渐退出先进逻辑芯片制造市场竞争。

Canon（佳能）

优势：

以接触式和投影式光刻机起步，擅长中小尺寸晶圆和专用工艺。

在光学设计和影像技术方面有独特优势。

现状：

主力产品为 i-line（365 nm）、KrF 光刻机，应用在封装、LED、MEMS 等领域。

局限：缺乏先进制程能力，定位偏向中低端市场。

三、其他地区品牌

美国

曾经有 GCA、Perkin-Elmer 等公司，但在 90 年代逐渐退出。

目前美国企业更多在光刻机关键零部件领域发挥作用，如 Cymer（光源）、KLA（检测）等。

韩国

三星、SK 海力士虽为光刻机主要用户，但并未形成整机品牌，主要集中在材料和零部件供应。

欧洲其他国家

除 ASML 外，部分企业参与光刻机关键零部件，如德国蔡司（Carl Zeiss，提供光学系统），是 ASML 的重要合作伙伴。

四、品牌格局与竞争趋势

ASML 一家独大

在 EUV 时代，ASML 是唯一能量产的供应商，形成事实垄断。

日本品牌稳守特定市场

Nikon 和 Canon 在先进制程缺位，但在封装、功率半导体、显示面板等领域仍有强大生命力。

合作与依赖

光刻机是全球化产业链的产物：ASML 需要美国光源、德国光学、日本材料的支持。

未来发展可能会受国际贸易与技术管制的影响。

五、总结

光刻机品牌格局可以概括为：

ASML —— 高端市场的绝对霸主，独占 EUV 光刻机。

Nikon、Canon —— 日本双雄，在中低端及特定工艺市场占有一席之地。

其他企业 —— 更多集中在零部件供应和历史遗留品牌。