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2025-04
光刻机用电
光刻机是芯片制造工艺中最核心、最复杂的设备之一。特别是随着先进制程技术的推进，比如7nm、5nm乃至4nm节点，对光刻机性能提出了极高的要求。光刻机在 ...
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29
2025-04
4nm光刻机
光刻机是一种高精度设备，主要用于半导体制造中，将芯片设计图案转印到硅片上。所谓的“4nm”，指的是芯片制程节点的尺度，即芯片上晶体管或其他结构的最小特 ...
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29
2025-04
接触光刻机
接触光刻机是最早期、最基础的光刻设备之一，在集成电路和微纳加工的初期阶段被广泛应用。所谓“接触光刻”，是指掩模（Mask）与光刻胶（Photoresi ...
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27
2025-04
6nm光刻机
随着半导体技术的不断发展，制造微型芯片的制程节点也不断缩小。6nm光刻机代表着当前最先进的光刻技术之一，正在成为芯片制造的重要工具。6nm工艺是基于更 ...
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2025-04
平板光刻机
平板光刻机是一种用于制造集成电路（IC）和其他微电子产品的关键设备，主要应用于半导体生产领域。与传统的光刻机相比，平板光刻机在设计和应用上具有独特的优 ...
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2025-04
8nm光刻机
随着半导体技术的不断进步，集成电路的制程不断向更小的尺度发展。光刻机作为制造微小芯片的关键设备，其技术不断演进以适应更先进的芯片制程。一、光刻机的基础 ...
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2025-04
9nm光刻机
光刻机是半导体制造中至关重要的设备之一，负责将电路图案精确地转移到硅片的光刻胶层上，是集成电路（IC）生产中的核心技术之一。随着技术的不断进步，制造工 ...
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2025-04
光刻机设备企业
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备之一，用于将微小的电路图案转移到硅片的光刻胶层上。随着集成电路（IC）制程技术不断向更小的节点（如7nm、5nm ...
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2025-04
duv步进投影光刻机
DUV（深紫外）步进投影光刻机是集成电路（IC）制造中用于光刻过程的关键设备之一。光刻技术是半导体制造过程中至关重要的一环，它通过将电路图案从掩模转印 ...
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2025-04
光刻机 佳能
光刻机是集成电路（IC）制造过程中至关重要的一环。它利用光刻技术将电路图案从掩模转印到硅片（或其他半导体材料）表面，以进行微缩与图案化。一、佳能光刻机 ...