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2025-07
光刻机lsa
光刻技术是半导体制造中的核心工艺之一，主要用于将设计好的电路图案精确地转移到硅片表面。这一过程对于现代电子设备的芯片制造至关重要。一、LSA光刻机的技 ...
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04
2025-07
rgx光刻机
光刻机（Photolithography Machine）是半导体制造中不可或缺的关键设备之一，它利用光学原理将电路图案转移到硅片（wafer）上，是 ...
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03
2025-07
dua光刻机
DUA光刻机是一种用于半导体制造过程中进行图案转移的设备，它使用深紫外（Deep Ultraviolet DUV）光源进行曝光，从而将集成电路的设计图 ...
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03
2025-07
光刻机1uv
1UV光刻机是一种利用紫外光（UV）进行图案转移的光刻设备，主要用于半导体制造过程中晶圆的微细加工。光刻机的基本原理光刻机（Lithography m ...
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2025-07
uuv光刻机
一、UUV光刻机概述UUV光刻机（Ultra Ultraviolet Lithography）是下一代光刻技术中的一个前沿概念，旨在突破现有光刻技术的 ...
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02
2025-07
ma8光刻机
MA8光刻机概述MA8光刻机（MicroAligner 8）是一种高精度的半导体光刻设备，主要用于集成电路（IC）生产中的曝光步骤。它属于先进的光刻设 ...
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02
2025-07
evu光刻机
EVU光刻机概述EVU光刻机（Extreme Ultraviolet Lithography，极紫外光刻机）是一种用于半导体制造过程中的先进光刻设备， ...
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01
2025-07
dmo光刻机
DMO光刻机（Direct Maskless Lithography，直写掩模光刻机）是一种先进的光刻设备，其核心技术是采用电子束直接写入电路图案，而 ...
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2025-07
光刻机ma6
MA6光刻机是一种由日本公司 Nikon（尼康）制造的经典光刻设备，广泛应用于半导体制造过程中，特别是在微电子领域中对于集成电路(IC)制造的核心设备 ...
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2025-07
gca光刻机
GCA（GCA Corporation）是一家美国公司，曾在光刻机（Photolithography）技术领域具有较高的影响力，尤其在上世纪80年代和 ...