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2025-01
日立光刻机
日立光刻机（Hitachi Lithography System）是日本日立公司（Hitachi, Ltd.）在半导体制造领域的一个重要设备系列，专门 ...
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10
2025-01
gline光刻机
光刻机（Lithography Machine）在半导体制造过程中起着至关重要的作用，尤其是集成电路的生产。随着芯片技术的不断发展，制程不断微缩，光刻 ...
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10
2025-01
14nm芯片光刻机
14nm芯片光刻机是半导体制造领域中用于生产14纳米（nm）制程芯片的关键设备。随着芯片技术的不断进步，芯片尺寸不断缩小，从28nm到14nm，再到7 ...
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09
2025-01
光刻机的历史
光刻机，作为半导体制造中最重要的设备之一，其发展史与集成电路（IC）技术的进步息息相关。自上世纪50年代末半导体工艺开始形成以来，光刻技术经历了多次革 ...
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09
2025-01
两种光刻机
光刻机是半导体制造中至关重要的设备，它负责将集成电路的设计图案精确地转移到硅片上，形成芯片的电路。随着芯片制造技术的不断进步，光刻机也在不断演化，以适 ...
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09
2025-01
法国光刻机
光刻机是半导体制造中最关键的设备之一，用于在硅片上精确刻画微小的电路图案，是芯片生产的核心技术工具。法国在光刻机领域并不像荷兰的ASML那样广为人知， ...
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08
2025-01
光刻机的核心技术
光刻机是现代半导体制造中的核心设备，广泛应用于集成电路（IC）生产过程中，是将电路设计图案准确转移到硅晶圆上的关键工具。随着制程技术的不断发展，光刻机 ...
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08
2025-01
光刻机运动平台
光刻机（Photolithography Machine）是现代半导体制造的核心设备，广泛应用于集成电路（IC）的生产中。光刻机的工作原理是通过将电路 ...
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08
2025-01
光刻机制造方法
光刻机（Photolithography Machine）是现代半导体制造中不可或缺的设备，广泛应用于集成电路（IC）生产的多个工艺节点。1. 光刻机 ...
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07
2025-01
3d纳米光刻机
随着半导体技术的不断发展，传统的平面光刻技术已经难以满足先进制程的要求，尤其是在制程节点不断缩小的背景下。为了应对这一挑战，3D纳米光刻技术应运而生。 ...