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  • 25
    2024-12

    7纳米的光刻机

    随着半导体技术不断向更小的工艺节点发展,7纳米(nm)制程成为当前主流的先进制造技术之一。为了满足7纳米及以下制程节点的需求,光刻机作为半导体制造过程 ...

  • 24
    2024-12

    光刻机封装

    光刻机封装(Lithography Machine Packaging)是指在半导体制造过程中,光刻机内部各个组件的保护、连接和密封技术。1. 光刻机 ...

  • 24
    2024-12

    光刻机的光源

    光刻机的光源是半导体制造过程中至关重要的组成部分,直接影响到图案转移的分辨率和制造精度。光刻技术通过将芯片设计图案从光掩模投射到硅片上的光刻胶层中,而 ...

  • 24
    2024-12

    duv光刻机制程

    DUV光刻机(Deep Ultraviolet Lithography) 是一种使用深紫外光源的光刻技术,在半导体制造中广泛应用于芯片生产的不同工艺节 ...

  • 23
    2024-12

    微米光刻机

    微米光刻机(Micron Lithography Machine)是用于微米级别集成电路(IC)和微纳米结构制造的精密设备。随着半导体制造工艺的不断进 ...

  • 23
    2024-12

    immersion光刻机

    浸没式光刻机(Immersion Lithography Machine) 是一种利用液体介质来提高光刻分辨率的光刻技术。它是在传统的干式光刻技术基础 ...

  • 23
    2024-12

    nxt1980di光刻机

    NXT 1980DI光刻机 是由荷兰ASML公司生产的先进光刻设备,属于其NXT系列中的一款浸没式光刻机(Immersion Lithography ...

  • 22
    2024-12

    光电光刻机

    光电光刻机(Optoelectronic Lithography Machine)是一种结合了光学和电子学技术的光刻设备,广泛应用于半导体、微电子、光 ...

  • 21
    2024-12

    新型光刻机

    新型光刻机代表了半导体制造技术中最新的技术发展,主要体现在光源、光学系统、对准技术、以及生产效率等方面的重大突破。随着半导体工艺向更小节点、更高密度的 ...

  • 20
    2024-12

    高级光刻机

    高级光刻机(Advanced Lithography Machine)是半导体制造过程中至关重要的设备之一,它在芯片生产中负责将设计好的电路图案精确转 ...

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