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联系我们

  • 01
    2024-10

    光刻机是怎么工作的

    光刻机是半导体制造中至关重要的设备,其主要功能是将电路设计的图案精确地转移到硅片上,以制造微电子器件。光刻工艺的成功与否直接影响到芯片的性能和良品率。 ...

  • 30
    2024-09

    157nm光刻机

    157纳米光刻机是一种先进的光刻设备,主要用于半导体制造领域。其核心特征是采用157纳米波长的光源,这一波长的引入,使得光刻技术能够在更小的特征尺寸上 ...

  • 30
    2024-09

    最贵光刻机

    在现代半导体制造领域,光刻机是关键设备之一,其价格常常高得令人瞩目。在众多光刻机中,荷兰ASML公司生产的极紫外光刻机(EUV)无疑是当前最贵的光刻机 ...

  • 30
    2024-09

    好的光刻机

    光刻机在半导体制造过程中扮演着至关重要的角色,能够将电路设计的图案精准转移到硅片上,从而形成微观结构。一个好的光刻机不仅要具备高分辨率和高生产效率,还 ...

  • 29
    2024-09

    ma6 光刻机

    MA6光刻机(MA6 Lithography System)是一款广泛应用于半导体制造领域的光刻设备,由SUSS MicroTec公司开发。作为一款高 ...

  • 29
    2024-09

    mjb4光刻机

    MJB4光刻机是一款由SUSS MicroTec公司开发的高性能光刻设备,广泛应用于微电子、MEMS(微机电系统)、光电子和纳米技术等领域。MJB4以 ...

  • 29
    2024-09

    双光子光刻机

    双光子光刻机(Two-Photon Lithography, TPL)是一种新兴的高分辨率微纳制造技术,广泛应用于微电子、光子学、材料科学和生物工程等 ...

  • 27
    2024-09

    啥是光刻机

    光刻机是半导体制造中不可或缺的核心设备,用于将电路设计图案转移到硅片上。其工作原理基于光学成像技术,通过对光刻胶的曝光和显影过程,实现微细图案的制作。 ...

  • 27
    2024-09

    深紫光刻机

    深紫外光刻机(Deep Ultraviolet Lithography DUV)是现代半导体制造中不可或缺的重要设备。它利用深紫外光源进行电路图案的曝 ...

  • 27
    2024-09

    几代光刻机

    光刻机是半导体制造中的关键设备,其发展历程可分为几个重要的代际,随着技术的不断进步,光刻机的性能和应用范围也在不断提升。第一代光刻机第一代光刻机主要使 ...

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