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02
2024-09
x射线 光刻机
X射线光刻机是一种利用X射线作为光刻曝光源的光刻设备，主要用于在半导体制造中实现极高分辨率的图案转印。X射线光刻技术被认为是突破现有光刻技术分辨率极限 ...
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01
2024-09
光刻机的关键技术
光刻机是半导体制造过程中最关键的设备之一，其作用是在硅晶圆上精确地转印出集成电路的微小图案。光刻机的性能直接决定了半导体器件的尺寸、性能和良率。光刻机 ...
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31
2024-08
1微米光刻机
1微米光刻机是早期光刻技术的一种代表性设备，用于在半导体制造过程中实现1微米（1000纳米）级别的图案分辨率。虽然相比于现代纳米级光刻机来说，1微米的 ...
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30
2024-08
10nm光刻机
10纳米（10nm）光刻机是半导体制造技术中的重要设备，用于制造具有10纳米特征尺寸的集成电路。随着半导体工艺节点的不断进步，光刻技术在实现更小尺寸和 ...
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30
2024-08
光刻机掩膜台
光刻机掩膜台是光刻技术中的关键组件，负责将掩膜版上的图案精确地转印到光刻胶涂布的硅晶圆上。掩膜台的性能直接影响到光刻图案的精度和一致性，进而影响最终集 ...
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2024-08
丹麦光刻机
丹麦光刻机的研究与开发代表了光刻技术在全球半导体产业中的重要地位。尽管丹麦的半导体制造业在全球范围内相对较小，但丹麦在光刻机领域的一些技术创新和合作仍 ...
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29
2024-08
光刻机 光刻胶
光刻胶（Photoresist）在光刻机（Photolithography）过程中扮演着至关重要的角色，是半导体制造中不可或缺的关键材料。光刻机通过将 ...
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29
2024-08
光刻胶 光刻机
光刻胶和光刻机是半导体制造过程中的两个核心要素，它们密切配合，实现微米级到纳米级精度的电路图案转印。1. 光刻胶的基础光刻胶（Photoresist） ...
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2024-08
佳能光刻机多少纳米
佳能（Canon）作为全球领先的光学设备制造商之一，在光刻机领域具有显著的市场地位。佳能的光刻机技术主要应用于半导体制造，支持从微米级别到纳米级别的精 ...
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2024-08
西班牙光刻机
西班牙在光刻机技术领域的贡献虽相对较小，但近年来有所提升。西班牙的光刻机行业主要涉及光刻设备的设计、制造及其相关技术研发。光刻机作为半导体制造中的核心 ...