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2024-07
极紫外光光刻机
极紫外光（EUV）光刻机是当今半导体制造领域中备受瞩目的高精度、高效率的关键设备之一。作为半导体工艺制程中的核心环节，EUV光刻机利用13.5纳米 ...
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2024-07
无掩模光刻机
无掩模光刻技术是当今半导体制造领域备受关注的一项前沿技术。与传统的掩模光刻技术不同，无掩模光刻技术通过直接将光束聚焦到硅片表面，实现对芯片器件的图 ...
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2024-07
光刻机 报价
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备之一，它承担着将芯片图案投射到硅片表面的任务，是实现芯片制造精度和性能的关键。然而，光刻机的价格往往成为制造 ...
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2024-07
光刻机极紫外光
极紫外光（EUV）光刻技术是当今半导体制造领域中备受关注的前沿技术之一。它利用极紫外波段的光源进行曝光，可以实现比传统的深紫外（DUV）光刻更高的 ...
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2024-07
光刻机目前最高精度
在当今半导体制造领域，光刻机的精度是关乎整个工艺链成功的重要环节之一。光刻机的精度通常由其分辨率来衡量，即其能够实现的最小特征尺寸。目前，随着工艺 ...
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2024-07
浸没式duv光刻机
当今半导体制造领域中，浸没式DUV（Deep Ultraviolet）光刻机是一项关键技术，其应用广泛且影响深远。 技术原理 浸没式DU ...
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2024-07
duv浸没式光刻机
DUV（深紫外）浸没式光刻机是当前半导体制造中最先进和广泛应用的一种光刻技术。DUV浸没式光刻机利用深紫外光（通常是193纳米波长的ArF准分子激 ...
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2024-07
无掩膜激光直写光刻机
无掩膜激光直写光刻机（Maskless Laser Direct Writing Lithography System，简称MLDW）是一种先进的 ...
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2024-07
光刻机制造商有哪些
在半导体制造领域，光刻机制造商是一群专注于设计、制造和销售光刻机设备的企业。这些企业在半导体制造过程中扮演着关键的角色，其产品直接影响到芯片制造的 ...
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2024-07
光刻机掩膜板的制造
光刻机掩膜板的制造是半导体制造过程中的关键环节之一，它直接影响到芯片制造的精度、性能和成本。掩膜板，也称为掩模板或掩膜片，是用于光刻机上的光刻步骤 ...