最新资讯
联系我们
-
01
2025-07
dmo光刻机
DMO光刻机（Direct Maskless Lithography，直写掩模光刻机）是一种先进的光刻设备，其核心技术是采用电子束直接写入电路图案，而 ...
-
01
2025-07
光刻机ma6
MA6光刻机是一种由日本公司 Nikon（尼康）制造的经典光刻设备，广泛应用于半导体制造过程中，特别是在微电子领域中对于集成电路(IC)制造的核心设备 ...
-
01
2025-07
gca光刻机
GCA（GCA Corporation）是一家美国公司，曾在光刻机（Photolithography）技术领域具有较高的影响力，尤其在上世纪80年代和 ...
-
30
2025-06
ebl光刻机
电子束光刻（EBL）是一种基于电子束扫描技术的微细加工技术，它通过将电子束聚焦到涂有感光材料的基片上，精确地曝光形成所需的微纳结构。这项技术在半导体制 ...
-
30
2025-06
光刻机krf
KRF光刻机（KrF Lithography，氪氟光刻机）是一种使用氪氟（KrF）激光光源的光刻技术，通常用于半导体制造过程中的图案转移。一、KRF光 ...
-
30
2025-06
fuv光刻机
FUV（Far Ultra Violet，远紫外光）光刻机是一种基于远紫外光波长进行微纳加工的光刻技术，广泛应用于半导体制造、微电子器件的制作、纳米技 ...
-
29
2025-06
eua光刻机
随着半导体制程不断向更小的节点进化，光刻技术作为芯片制造中的核心工艺，正朝着更高精度、更细致图案的方向发展。EUV光刻机（极紫外光刻机）作为目前最先进 ...
-
28
2025-06
光刻机 激光
光刻机是现代半导体制造过程中不可或缺的核心设备之一，其作用是通过精密的光学系统将微小的电路图案从掩模（Mask）转移到硅片的光刻胶层上，从而实现集成电 ...
-
27
2025-06
光刻机arf
光刻机是半导体制造中的关键设备之一，用于将集成电路（IC）设计图案从掩模（Mask）转印到硅片上的光刻胶层。随着半导体工艺的不断进步，制程越来越小，光 ...
-
26
2025-06
国际光刻机巨头
光刻机是半导体制造中至关重要的设备之一，它负责将微小的电路图案通过光刻技术转移到硅片上。随着集成电路技术的进步，光刻机的精度不断提升，使得芯片的制程逐 ...