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2024-08
光刻机掩膜版
光刻机掩膜版（Photomask），或称掩膜（Mask），在半导体制造过程中扮演着关键角色。它是将电路图案从设计文件精确转印到硅晶圆光刻胶上的核心工具 ...
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27
2024-08
实验室用小型光刻机
实验室用小型光刻机是一种专门设计用于研究和开发阶段的光刻设备，其主要用途包括微纳米结构的制备、材料科学研究以及原型开发等。相比于工业级光刻机，小型光刻 ...
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26
2024-08
封装用光刻机
封装用光刻机是半导体封装制造中的关键设备，负责将电路图案精确地转印到封装材料上。与芯片制造中的光刻技术类似，封装光刻机同样对封装的精度和可靠性有着直接 ...
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26
2024-08
光刻机掩膜板
光刻机掩膜板（Mask Plate），通常被称为掩模（Mask）或光掩模（Photomask），是半导体制造中至关重要的组成部分之一。掩膜板的主要功能 ...
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26
2024-08
英特尔的光刻机
英特尔在半导体制造领域的领先地位不仅依赖于其创新的芯片设计和先进的生产工艺，还包括其在光刻技术方面的显著投入。光刻机是半导体制造过程中的核心设备，负责 ...
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2024-08
asml的光刻机
ASML（阿斯麦）是全球领先的光刻机制造商，其光刻机技术在半导体制造中扮演了至关重要的角色。作为行业的标杆，ASML的光刻机代表了最前沿的光刻技术，并 ...
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2024-08
1950i光刻机
1950i光刻机是半导体制造领域的重要设备，它代表了光刻技术的一个重要发展阶段。光刻技术是半导体生产过程中用于将电路图案转印到硅晶圆上的关键技术。19 ...
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2024-08
双光子三维光刻机
双光子三维光刻（Two-Photon Polymerization, TPP）技术是一种先进的三维纳米制造技术，广泛应用于微纳加工、光子学、医学工程等 ...
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2024-08
国产光刻机光源
国产光刻机光源是半导体制造设备中至关重要的组成部分之一，其性能直接影响到光刻技术的分辨率和生产效率。随着中国半导体产业的快速发展，国产光刻机光源技术也 ...
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2024-08
微米级光刻机
微米级光刻机是半导体制造过程中的关键设备之一，其主要功能是将电路图案精确地转印到硅晶圆上。这种设备广泛应用于集成电路（IC）的生产中，对于推动电子技术 ...