自制光刻机中的“镜子原理”，通常指的是利用反射光学系统来实现图形成像与曝光的基本思想。这类光刻机多用于教学、科研验证或个人实验，并不追求纳米级极限精度，但其光学原理与高端光刻机在物理逻辑上是一致的。

从光学基础看，镜子的核心作用是反射并重新塑造光路。在自制光刻机中，镜子通常用于改变光传播方向、延长或压缩光路、提高光利用率，甚至在一定程度上承担成像任务。与透镜不同，镜子不依赖材料的透光性能，因此不存在色散问题，这也是反射光学在高精度光刻中被广泛采用的根本原因。

在最简单的自制光刻系统中，镜子往往用于折叠光路。光源发出的光经过准直后，通过平面反射镜被引导到掩模和基片方向。这种设计可以在有限空间内实现较长的有效光程，使光在到达掩模前更加均匀。虽然这种镜子不直接参与成像，但它保证了曝光条件的稳定性，是自制光刻机可用性的基础。

更进一步的镜子原理，体现在反射式成像中。在一些自制光刻实验中，会尝试用凹面镜来代替透镜，实现简单的聚焦或缩小投影。凹面镜在几何光学中具有与凸透镜类似的成像能力，能够把掩模上的图形反射并聚焦到光刻胶表面。通过调节掩模、镜子和基片之间的距离，可以实现不同倍率的投影成像，这正是光刻“打印图形”的核心原理。

镜子在光刻中的优势之一，是避免透镜引入的像差和材料限制。自制光刻机往往使用普通玻璃或树脂透镜，这些材料在紫外波段透过率有限，容易引入色差和吸收。而金属或镀膜镜子对波长的适应性更强，只要反射面质量足够好，就能在较宽波段内稳定工作。这也是为什么即使在简化系统中，反射镜仍然具有很高的实验价值。

在原理层面，自制光刻机镜子系统仍然遵循成像等效原理。掩模是物体，光刻胶表面是像面，镜子和其他光学元件共同构成成像系统。只要系统满足基本成像条件，掩模图形就可以被复制到基片上。不同之处在于，自制系统中更容易受到环境振动、镜面精度和对准误差的影响，因此成像清晰度和重复性有限。

镜子的表面质量在自制光刻机中尤为关键。镜面粗糙度直接影响反射光的散射程度，如果表面不够光滑，光会被随机散射，导致曝光边缘模糊、对比度下降。在教学和实验级光刻中，这种模糊可能仍然可接受，但它清楚地展示了“光学元件精度决定最终线宽”的基本规律。

在一些更高阶的自制尝试中，会引入多面镜组合，模拟工业光刻机中的反射光学路径。多次反射可以改变光束形态，实现更复杂的照明和成像效果。但与此同时，每一次反射都会带来能量损失和误差累积，这也让实验者直观理解到工业光刻机为何需要极高反射率和极严苛的制造工艺。

需要强调的是，自制光刻机镜子原理的价值，并不在于“替代工业设备”，而在于帮助理解光刻的本质。通过镜子控制光路、成像和曝光，人们可以直观感受到光学对制造精度的决定性影响。这种体验式理解，是单纯阅读理论或观察成品芯片所无法获得的。

总体而言，自制光刻机中的镜子原理，是把复杂光刻技术拆解为可理解、可操作的光学问题。镜子在其中既是光路调节工具，也是成像元件，它让实验者看到：即使在简化条件下，只要遵循光学成像的基本规律，光刻这一“用光制造结构”的思想就可以被真实地演示和验证。