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2025-06
光刻机5nm
在半导体产业中，芯片制程的微缩代表着更强的性能、更低的功耗以及更小的尺寸。所谓“5纳米制程”，指的是芯片中晶体管关键结构的特征尺寸约为5纳米（nm）， ...
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2025-06
光刻机的类型
光刻机是半导体制造中最关键的设备之一，它的主要功能是将设计好的电路图案精确转印到晶圆表面。随着芯片制程不断向更小的节点推进，光刻技术也不断演进，衍生出 ...
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2025-06
离子光刻机
离子光刻机是一种利用聚焦离子束（Focused Ion Beam, FIB）将图案直接写入材料表面或光刻胶上的先进微纳加工设备。相较于传统的光学光刻（ ...
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2025-06
光刻机 对比
光刻机是半导体芯片制造过程中不可或缺的关键设备，其功能是在硅晶圆上精确刻画电路图案。随着集成电路制程节点向7纳米、5纳米、甚至2纳米发展，光刻技术的分 ...
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2025-06
投影光刻机
概述投影光刻机（Projection Lithography System）是利用光学投影方式将掩模（mask）上图案成像并缩小投影到基片（晶圆或玻璃 ...
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2025-06
紫外线光刻机
概述紫外线光刻机（UV Lithography System）是一种利用紫外光将图案转印到光刻胶上的关键设备，广泛应用于半导体制造、微机电系统（MEM ...
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2025-06
光刻机投影
光刻机投影是现代微纳米制造工艺的核心环节，它利用高精度光学系统将掩膜（mask）上的图案缩小并成像到基片（晶圆或其它衬底）上，从而完成微米甚至纳米级图 ...
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2025-06
光刻机紫外线
在半导体制造中，光刻机（Lithography Machine）是一种利用光源将微小图案从掩模（mask）转移到晶圆表面的关键设备。紫外线（UV）作为 ...
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2025-06
步进扫描光刻机
步进扫描光刻机（Step-and-Scan Lithography Machine）是目前先进半导体制造中广泛采用的一种高分辨率、高精度的光刻设备，广 ...
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2025-06
dev光刻机
“DEV光刻机”中的“DEV”通常指的是“Development”，即显影工艺阶段，因此，DEV光刻机并不是一种独立的光刻设备，而是指在整个光刻工艺流 ...