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2024-08
英特尔的光刻机
英特尔在半导体制造领域的领先地位不仅依赖于其创新的芯片设计和先进的生产工艺，还包括其在光刻技术方面的显著投入。光刻机是半导体制造过程中的核心设备，负责 ...
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2024-08
asml的光刻机
ASML（阿斯麦）是全球领先的光刻机制造商，其光刻机技术在半导体制造中扮演了至关重要的角色。作为行业的标杆，ASML的光刻机代表了最前沿的光刻技术，并 ...
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2024-08
1950i光刻机
1950i光刻机是半导体制造领域的重要设备，它代表了光刻技术的一个重要发展阶段。光刻技术是半导体生产过程中用于将电路图案转印到硅晶圆上的关键技术。19 ...
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2024-08
双光子三维光刻机
双光子三维光刻（Two-Photon Polymerization, TPP）技术是一种先进的三维纳米制造技术，广泛应用于微纳加工、光子学、医学工程等 ...
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2024-08
国产光刻机光源
国产光刻机光源是半导体制造设备中至关重要的组成部分之一，其性能直接影响到光刻技术的分辨率和生产效率。随着中国半导体产业的快速发展，国产光刻机光源技术也 ...
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2024-08
微米级光刻机
微米级光刻机是半导体制造过程中的关键设备之一，其主要功能是将电路图案精确地转印到硅晶圆上。这种设备广泛应用于集成电路（IC）的生产中，对于推动电子技术 ...
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2024-08
联合精密 光刻机
联合精密（United Precision）是一家在光刻机领域较为新兴的公司，专注于开发和生产高精度的光刻设备。光刻机是半导体制造中的关键设备，负责将 ...
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2024-08
16nm光刻机
在半导体制造领域，光刻机是将电路设计图案从掩模精确地转印到硅晶圆上的关键设备。随着集成电路技术的发展，制程节点不断向更小尺寸推进。16nm制程节点代表 ...
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2024-08
瑞典 光刻机
光刻机是半导体制造中至关重要的设备，负责将集成电路设计图案从掩模精确地转印到硅晶圆上。瑞典，作为科技创新和半导体产业的重要参与者，虽然在全球光刻机市场 ...
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2024-08
亚微米光刻机
亚微米光刻机是半导体制造中的关键设备，专门用于生产低于1微米（即1000纳米）尺度的微小图案。随着集成电路技术的不断进步，对光刻机的分辨率和精度要求也 ...