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02
2025-01
灰度光刻机
灰度光刻机(Gray-Scale Lithography)是一种特殊的光刻技术,主要用于纳米尺度的图案转移中。与传统的二值光刻技术不同,灰度光刻技术不 ...
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01
2025-01
光刻机主要功能
光刻机是半导体制造中的核心设备之一,其主要功能是通过投射光源将电路图案从掩膜转移到涂有光刻胶的晶圆表面。随着制程工艺的不断进步,光刻机的作用不仅限于传 ...
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2024-12
光刻机研制
光刻机是半导体制造中的关键设备,广泛应用于集成电路(IC)芯片的生产中,是现代电子产品不可或缺的基础设备之一。光刻技术通过将设计的电路图案转移到硅晶圆 ...
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31
2024-12
光刻机 衍射
光刻技术是半导体制造中不可或缺的核心工艺,而衍射现象在光刻机的设计与制造过程中起着至关重要的作用。衍射是波动光学中的一种基本现象,当光波遇到障碍物或通 ...
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31
2024-12
步进投影式光刻机
步进投影式光刻机(Step-and-Repeat Lithography)是现代半导体制造中最常用的光刻技术之一,广泛应用于芯片生产中的电路图案转移过 ...
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30
2024-12
光刻机移动平台
光刻机是半导体制造中的关键设备之一,它负责将电路图案转移到硅片上,进而生产出集成电路和其他微电子器件。光刻机的关键功能是通过光学投影系统将掩膜上的图案 ...
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2024-12
德国有光刻机吗
德国在半导体制造领域享有盛誉,其工业基础雄厚,技术水平高,尤其在机械工程、精密仪器制造和材料科学等方面具有强大的实力。然而,尽管德国在这些领域有着杰出 ...
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2024-12
国外光刻机现在多少纳米
光刻机作为半导体制造的核心设备,其技术进步直接推动着集成电路和微电子技术的发展。随着半导体制程不断向更小的节点推进,光刻机的技术也在不断升级。1. 目 ...
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29
2024-12
asml光刻机duv
ASML(阿斯麦)是全球领先的光刻机制造商,其产品在半导体行业中占据着极其重要的位置。光刻机是半导体制造中的核心设备之一,用于将电路图案精确地转移到硅 ...
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2024-12
光刻机掩膜
在半导体制造中,光刻技术是实现电路图案微缩和转移的核心工艺。而在光刻过程中,掩膜(Mask)扮演着至关重要的角色,它是光刻机中用于定义电路图案的关键工 ...