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  • 06
    2025-03

    四纳米光刻机

    随着半导体行业的飞速发展,芯片制程不断向更小的节点推进,从而对光刻技术提出了更高的要求。四纳米(4nm)节点光刻机代表着现代半导体制造技术的前沿,尽管 ...

  • 05
    2025-03

    十纳米光刻机

    十纳米(10nm)光刻机指的是能够制造10纳米级别图案的光刻设备,通常应用于半导体芯片制造中。随着半导体行业向更小节点推进,光刻机技术也经历了不断的发 ...

  • 04
    2025-03

    纳米压光刻机

    纳米压光刻(Nanoimprint Lithography,简称NIL)是一种先进的纳米制造技术,近年来在微电子、光学、传感器和生物技术领域引起了广泛 ...

  • 03
    2025-03

    sony光刻机

    Sony(索尼)作为全球知名的电子科技公司,虽然并非半导体光刻机市场的主导者(如荷兰ASML、日本尼康Nikon和佳能Canon),但在特定领域,如微 ...

  • 02
    2025-03

    光刻机吸盘

    光刻机吸盘(Wafer Chuck)是光刻机中用于固定和稳定硅片(Wafer)的核心组件。它的主要功能是确保硅片在曝光过程中保持平稳、精准对位,并减少 ...

  • 01
    2025-03

    光刻机做什么

    光刻机(Lithography Machine)是半导体制造过程中最重要的设备之一,它的主要作用是将电路图案精确地转移到硅片(Wafer)上,制造出纳 ...

  • 28
    2025-02

    光刻机浸没系统

    光刻机浸没系统(Immersion Lithography System)是一种通过引入液体介质来提高光刻分辨率的先进技术,广泛应用于半导体制造中,尤 ...

  • 27
    2025-02

    液晶光刻机

    液晶光刻机(LCD-based lithography machine)是目前微电子制造过程中一种新兴的光刻技术。它利用液晶显示屏(LCD)作为光源的 ...

  • 24
    2025-02

    韩国能制造光刻机吗

    光刻机(Lithography Machine)作为半导体制造中的核心设备,广泛应用于集成电路(IC)的生产。它通过将电路图案转印到硅片表面,是制造高 ...

  • 24
    2025-02

    日本有光刻机吗

    光刻机(Lithography Machine)是半导体制造过程中的核心设备之一,广泛应用于集成电路(IC)制造中,用于将电路设计转移到硅片表面。光刻 ...

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