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2024-12
光刻机掩膜
在半导体制造中，光刻技术是实现电路图案微缩和转移的核心工艺。而在光刻过程中，掩膜（Mask）扮演着至关重要的角色，它是光刻机中用于定义电路图案的关键工 ...
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2024-12
湿式光刻机
光刻技术是半导体制造过程中最关键的技术之一，通过将电路图案从光掩模转移到硅片上的光刻胶中，从而在硅片上形成微型电路。光刻机是这一过程的核心设备，其性能 ...
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2024-12
光刻机对准
在半导体制造过程中，光刻技术是将电路图案转移到硅片上形成芯片电路的核心工艺。而光刻机对准技术是确保多层电路图案精确叠加的关键技术之一。在集成电路（IC ...
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2024-12
艾斯摩尔光刻机
艾斯摩尔（ASML）是全球领先的光刻机制造商，凭借其在光刻技术方面的创新，引领了现代半导体制造工艺的发展。光刻机是半导体制造中至关重要的设备，它通过将 ...
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2024-12
光刻机的三大核心技术
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备之一，广泛应用于集成电路（IC）的生产。它通过将微小的电路图案从光掩模转移到硅片或其他材料基片上的光刻胶层，构成 ...
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2024-12
封测光刻机
在半导体行业中，封装和测试（封测）是将芯片生产过程中的裸片（die）转化为最终可用产品的关键阶段。封测包括封装芯片、测试其功能与性能等多个步骤。在这一 ...
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2024-12
5纳米的光刻机
在现代半导体制造中，随着工艺节点的不断缩小，光刻机作为实现微观电路图案转移的关键设备，其技术要求也越来越高。尤其是在5纳米（nm）制程节点上，光刻机不 ...
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2024-12
光刻机详解
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备之一，主要用于将微小的电路图案从光掩模转移到硅片上的光刻胶层中，从而形成集成电路（IC）的结构。光刻技术是半导体 ...
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2024-12
mems光刻机
MEMS光刻机（Micro-Electro-Mechanical Systems Lithography Machine）是用于制造微机电系统（MEM ...
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2024-12
7纳米的光刻机
随着半导体技术不断向更小的工艺节点发展，7纳米（nm）制程成为当前主流的先进制造技术之一。为了满足7纳米及以下制程节点的需求，光刻机作为半导体制造过程 ...