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2025-01
aligner光刻机
Aligner 通常指的是掩模对准曝光机，是光刻机（Mask Aligner）的核心功能部件或有时作为光刻机的简称。工作原理光学投影原理：利用光学透镜 ...
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2025-01
asmleuv光刻机
ASML EUV 光刻机是荷兰阿斯麦公司（ASML）推出的极紫外光刻机，代表着当今半导体光刻技术的最高水平。技术原理极紫外光产生：ASML EUV 光 ...
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2025-01
ma150光刻机
MA150光刻机是由德国SUSS MicroTec公司生产的一款高精度的光刻设备，广泛应用于微电子制造、MEMS（微电子机械系统）、光电集成、电路板加 ...
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2025-01
网版光刻机
网版光刻机（也称为网版曝光系统）是一种应用于微电子制造领域的光刻设备，常用于较大尺寸的图案转移，特别是在集成电路（IC）、MEMS（微电子机械系统）、 ...
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2025-01
光刻机是半导体设备吗
光刻机（Photolithography machine）是一种用于半导体制造过程中非常关键的设备，毫无疑问，它是半导体生产线上的核心设备之一。它的作 ...
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2025-01
光刻机能耗
光刻机作为半导体制造过程中至关重要的设备之一，其在芯片生产中的作用举足轻重。然而，由于光刻机的工作原理涉及高能量的紫外光源、复杂的光学系统和精密的机械 ...
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2025-01
光刻机蚀刻
在半导体制造过程中，光刻与蚀刻是两项至关重要的工艺，它们共同作用于将设计电路图案转移到晶圆表面，并最终形成集成电路（IC）芯片的结构。光刻机与蚀刻工艺 ...
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2025-01
光刻机微电子
光刻机（Photolithography Machine）是微电子制造中至关重要的设备之一，广泛应用于半导体芯片的生产。它利用光学成像技术将设计图案转 ...
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2025-01
光子光刻机
光子光刻机（Photon Lithography Machine）是半导体制造领域中一种重要的技术设备，主要用于将设计电路图案高精度地转移到硅片（Wa ...
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2025-01
0.5纳米光刻机
随着半导体技术的不断进步，芯片的集成度越来越高，尺寸不断缩小。从传统的微米级工艺节点到如今的纳米级节点，半导体行业正在朝着更小尺寸、更高性能的方向迈进 ...