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2024-12
精密光刻机
精密光刻机（Precision Lithography Machine）是半导体制造过程中不可或缺的关键设备之一，它用于将微细的电路图案从光掩模转移到 ...
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2024-12
光刻机曝光
光刻机曝光是半导体制造过程中至关重要的一步，它涉及将图案从光掩模（Mask）转移到硅片表面上的光刻胶层。光刻机曝光的过程通过光学原理、精确的控制系统以 ...
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2024-12
光刻机汞灯
光刻机汞灯（Mercury Lamp）是传统光刻机中常用的光源之一，尤其在深紫外（DUV）光刻技术中扮演着关键角色。汞灯主要用于产生紫外光（UV光）， ...
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2024-12
小型光刻机
小型光刻机是一种尺寸较小、功能相对简化的光刻设备，通常用于实验室、教育、研发及低-volume生产等场景。尽管小型光刻机在许多方面与工业级的大型光刻机 ...
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2024-12
光刻机suss
SUSS光刻机是由德国SUSS MicroTec公司生产的一类高精度光刻设备，广泛应用于半导体制造、微电子封装、MEMS（微机电系统）、LED（发光二 ...
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2024-12
euv光刻机物镜
EUV光刻机物镜（Extreme Ultraviolet Lithography Optics）是极紫外光刻技术中最关键的组成部分之一。EUV光刻技术 ...
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2024-12
光刻机物镜
光刻机物镜（Objective Lens）是光刻机中至关重要的核心部件之一，负责将掩模上的电路图案精确地投影到硅片上的光刻胶表面。它的主要功能是聚焦光 ...
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2024-12
光刻机减振
光刻机减振技术是确保光刻机高精度操作的关键技术之一。光刻机的工作原理要求极高的精度和稳定性，任何微小的振动都会影响光刻图案的转移，导致芯片生产的缺陷。 ...
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2024-12
大型光刻机
大型光刻机是现代半导体制造中的关键设备之一，主要用于集成电路（IC）生产中的图案转移过程。光刻机的核心作用是利用光源通过掩模（或称为光掩膜）将微小的电 ...
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2024-12
光刻机如何制造
光刻机制造过程是一个极为复杂和精密的技术过程，涉及到多个学科领域，包括光学、精密机械、电子控制、材料科学等。光刻机是半导体制造中的核心设备之一，其主要 ...