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2024-12
民用光刻机
民用光刻机是一种适用于普通消费者或中小型企业的光刻设备，通常用于半导体制造、微电子技术、MEMS（微电机械系统）、传感器、显示器和其他微细加工领域。与 ...
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12
2024-12
简易光刻机
简易光刻机是一种低成本、简化版的光刻设备，通常用于教育、研究或小规模的半导体制造应用。虽然简易光刻机的功能和精度无法与工业级高端光刻机相提并论，但它通 ...
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2024-12
光刻机内部
光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备之一，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器、存储器芯片等产品的生产。光刻机的作用是通过精确的光学投影将电路设计图 ...
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10
2024-12
光刻机科普
光刻机（Photolithography Machine）是现代半导体制造中的核心设备之一，广泛应用于集成电路（IC）、微处理器、存储芯片、传感器等电 ...
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09
2024-12
台式光刻机
台式光刻机是一种小型化、低成本的光刻设备，主要应用于实验室研究、原型设计以及中小规模生产等领域。与传统的大型光刻机相比，台式光刻机体积更小，通常采用台 ...
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08
2024-12
mems 光刻机
微机电系统（MEMS，Micro-Electro-Mechanical Systems）是将微型机械元件、传感器、执行器以及电子电路集成在一起的系统， ...
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07
2024-12
光刻机 asml
ASML（阿斯麦）是全球唯一一家生产极紫外光（EUV）光刻机的公司，代表着光刻技术的前沿。作为半导体产业中不可或缺的一环，光刻机在集成电路的制造中扮演 ...
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06
2024-12
干式光刻机
光刻技术是半导体制造中至关重要的工艺之一，其核心任务是通过光照射将掩模上的电路图案转印到硅片上的光刻胶层中。在半导体制造的过程中，光刻机的技术发展对于 ...
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05
2024-12
100nm光刻机
光刻技术是半导体制造中关键的工艺之一，它决定了集成电路（IC）中各种微结构的尺寸和精度。随着集成电路技术不断发展，微缩技术不断进步，100nm光刻机作 ...
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04
2024-12
光刻机线宽
光刻技术（Photolithography）是半导体制造中至关重要的工艺之一，用于将电路图案从掩模（Mask）转移到硅片（Wafer）表面的光刻胶（P ...