最新资讯
联系我们
-
19
2025-06
光刻机 对比
光刻机是半导体芯片制造过程中不可或缺的关键设备，其功能是在硅晶圆上精确刻画电路图案。随着集成电路制程节点向7纳米、5纳米、甚至2纳米发展，光刻技术的分 ...
-
18
2025-06
投影光刻机
概述投影光刻机（Projection Lithography System）是利用光学投影方式将掩模（mask）上图案成像并缩小投影到基片（晶圆或玻璃 ...
-
18
2025-06
紫外线光刻机
概述紫外线光刻机（UV Lithography System）是一种利用紫外光将图案转印到光刻胶上的关键设备，广泛应用于半导体制造、微机电系统（MEM ...
-
18
2025-06
光刻机投影
光刻机投影是现代微纳米制造工艺的核心环节，它利用高精度光学系统将掩膜（mask）上的图案缩小并成像到基片（晶圆或其它衬底）上，从而完成微米甚至纳米级图 ...
-
17
2025-06
光刻机紫外线
在半导体制造中，光刻机（Lithography Machine）是一种利用光源将微小图案从掩模（mask）转移到晶圆表面的关键设备。紫外线（UV）作为 ...
-
17
2025-06
步进扫描光刻机
步进扫描光刻机（Step-and-Scan Lithography Machine）是目前先进半导体制造中广泛采用的一种高分辨率、高精度的光刻设备，广 ...
-
17
2025-06
dev光刻机
“DEV光刻机”中的“DEV”通常指的是“Development”，即显影工艺阶段，因此，DEV光刻机并不是一种独立的光刻设备，而是指在整个光刻工艺流 ...
-
16
2025-06
ev光刻机
EV光刻机，通常指的是极紫外光刻机（Extreme Ultraviolet Lithography, 简称 EUV），是当前最先进的光刻设备之一。它使 ...
-
16
2025-06
标签光刻机
标签光刻机，是一种专门用于微纳尺度图案转移、并广泛应用于标签制造、柔性电子、RFID（无线射频识别）标签、传感器和显示器等领域的光刻设备。从基本原理来 ...
-
16
2025-06
光刻机功能
光刻机（Photolithography Machine）是半导体制造过程中最核心、最精密的设备之一，其主要功能是将芯片设计图形通过光的照射精确投影到 ...