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2025-07
euv光刻机技术
极紫外光（Extreme Ultraviolet EUV）光刻技术是半导体制造领域的突破性进展，尤其在制造3纳米及以下制程节点的芯片中发挥着至关重要的 ...
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2025-07
193nm光刻机支持7nm工艺
光刻技术是半导体制造过程中最关键的技术之一，决定着芯片的分辨率和集成度。随着集成电路（IC）制程不断缩小，光刻机的性能和精度成为了推动半导体技术发展的 ...
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2025-07
光刻机uv
光刻机（Lithography machine）是半导体制造中至关重要的设备之一，用于将集成电路（IC）的设计图案转移到硅片或其他基材上。在这个过程中 ...
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2025-07
光刻机nm
光刻机（Lithography machine）是半导体制造中至关重要的设备之一，它用于将集成电路（IC）的电路图案从掩模（Mask）转移到硅片表面上 ...
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2025-07
光刻机构造
光刻机（Lithography Machine）是半导体制造中至关重要的设备之一，广泛应用于集成电路（IC）制造、微机电系统（MEMS）开发、光电子器 ...
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2025-07
光刻机光学系统
光刻机（Lithography Machine）是半导体制造过程中最关键的设备之一，广泛应用于集成电路（IC）芯片的生产。1. 光刻机光学系统的工作原 ...
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2025-07
nv光刻机
光刻机（Lithography Machine）是半导体制造过程中的关键设备之一，广泛应用于集成电路(IC)的生产。随着集成电路芯片的不断微型化与高性 ...
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2025-07
dmd光刻机
DMD光刻机（Digital Micromirror Device Lithography）是基于数字微镜设备（DMD, Digital Microm ...
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2025-07
nm光刻机
NM光刻机（Nanometer Lithography Machine）是用于生产纳米级集成电路（IC）的一种高精度光刻设备。1. NM光刻机的基本原 ...
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2025-07
ic光刻机
IC光刻机（Integrated Circuit Photolithography Machine）是集成电路（IC）制造中不可或缺的关键设备之一。1 ...