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2025-01
光刻机投影物镜
光刻机是半导体制造中的核心设备之一，用于将集成电路设计图案精确地转印到硅片上的光刻胶层中。光刻技术是芯片制造过程中的关键环节之一，决定了芯片的分辨率、 ...
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13
2025-01
raith光刻机
Raith光刻机是一种高精度、纳米级别的电子束曝光设备，广泛应用于微电子、纳米技术、材料科学等领域的研究和工业生产。Raith作为全球领先的电子束光刻 ...
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13
2025-01
光刻机目镜
光刻机是现代半导体制造中的核心设备，它用于将电子设计图案精确地转移到硅片等基材上。光刻技术广泛应用于集成电路（IC）、微机电系统（MEMS）、显示器以 ...
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2025-01
光刻机洁净室
光刻机洁净室是半导体制造工艺中不可或缺的关键设施。光刻机（Photolithography machine）是集成电路（IC）制造过程中的核心设备，主 ...
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2025-01
havok光刻机
Havok光刻机是一种专门用于半导体制造的光刻设备，其主要作用是在生产集成电路（IC）和微芯片的过程中通过光学曝光技术将电路图案精确地转印到硅晶圆上。 ...
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2025-01
日立光刻机
日立光刻机（Hitachi Lithography System）是日本日立公司（Hitachi, Ltd.）在半导体制造领域的一个重要设备系列，专门 ...
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10
2025-01
gline光刻机
光刻机（Lithography Machine）在半导体制造过程中起着至关重要的作用，尤其是集成电路的生产。随着芯片技术的不断发展，制程不断微缩，光刻 ...
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2025-01
14nm芯片光刻机
14nm芯片光刻机是半导体制造领域中用于生产14纳米（nm）制程芯片的关键设备。随着芯片技术的不断进步，芯片尺寸不断缩小，从28nm到14nm，再到7 ...
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09
2025-01
光刻机的历史
光刻机，作为半导体制造中最重要的设备之一，其发展史与集成电路（IC）技术的进步息息相关。自上世纪50年代末半导体工艺开始形成以来，光刻技术经历了多次革 ...
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09
2025-01
两种光刻机
光刻机是半导体制造中至关重要的设备，它负责将集成电路的设计图案精确地转移到硅片上，形成芯片的电路。随着芯片制造技术的不断进步，光刻机也在不断演化，以适 ...