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2025-07
uuv光刻机
一、UUV光刻机概述UUV光刻机（Ultra Ultraviolet Lithography）是下一代光刻技术中的一个前沿概念，旨在突破现有光刻技术的 ...
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02
2025-07
ma8光刻机
MA8光刻机概述MA8光刻机（MicroAligner 8）是一种高精度的半导体光刻设备，主要用于集成电路（IC）生产中的曝光步骤。它属于先进的光刻设 ...
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02
2025-07
evu光刻机
EVU光刻机概述EVU光刻机（Extreme Ultraviolet Lithography，极紫外光刻机）是一种用于半导体制造过程中的先进光刻设备， ...
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01
2025-07
dmo光刻机
DMO光刻机（Direct Maskless Lithography，直写掩模光刻机）是一种先进的光刻设备，其核心技术是采用电子束直接写入电路图案，而 ...
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01
2025-07
光刻机ma6
MA6光刻机是一种由日本公司 Nikon（尼康）制造的经典光刻设备，广泛应用于半导体制造过程中，特别是在微电子领域中对于集成电路(IC)制造的核心设备 ...
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01
2025-07
gca光刻机
GCA（GCA Corporation）是一家美国公司，曾在光刻机（Photolithography）技术领域具有较高的影响力，尤其在上世纪80年代和 ...
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30
2025-06
ebl光刻机
电子束光刻（EBL）是一种基于电子束扫描技术的微细加工技术，它通过将电子束聚焦到涂有感光材料的基片上，精确地曝光形成所需的微纳结构。这项技术在半导体制 ...
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30
2025-06
光刻机krf
KRF光刻机（KrF Lithography，氪氟光刻机）是一种使用氪氟（KrF）激光光源的光刻技术，通常用于半导体制造过程中的图案转移。一、KRF光 ...
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30
2025-06
fuv光刻机
FUV（Far Ultra Violet，远紫外光）光刻机是一种基于远紫外光波长进行微纳加工的光刻技术，广泛应用于半导体制造、微电子器件的制作、纳米技 ...
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2025-06
eua光刻机
随着半导体制程不断向更小的节点进化，光刻技术作为芯片制造中的核心工艺，正朝着更高精度、更细致图案的方向发展。EUV光刻机（极紫外光刻机）作为目前最先进 ...